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发布时间：2021-06-03 16:39:40 点击量：

品牌：cypress赛普拉斯
型号: cypress赛普拉斯电子元件

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这时可以用上第一份遮光物，使得紫外光直射的部分被溶解，这溶解部分接着可用溶剂将其冲走。这样剩下的部分就与遮光物的形状一样了，而这效果正是我们所要的。这样就得到我们所需要的二氧化硅层。最后，把显影液喷洒到晶圆表面的光刻胶上，对曝光图形显影。对曝光后的晶圆进行第二次烘烤，即所谓的曝光后烘烤，后烘烤是的光化学反应更充分。

快盈IV组件层的制作非常像照相过程。虽然可见光谱中的光波不能用来曝光组件层，因为他们太大了。ic芯片的结构，由于尺寸限制，在IC上只能产生很小的电容。更为少见的电感结构，可以制作芯片载电感或由回旋器模拟。

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快盈IV

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